非生体試料

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物質名 試料種類 分析方法 管理濃度(a) 許容濃度(b) ACGIH-TLVs(TWA)(c)
A-1 遊離けい酸 気中、個人曝露 Ｘ線回折(再発じん法) E(mg/m3) 0.03(I)(mg/m3) 0.025(R)(mg/m3)
堆積じん
A-2 石綿(繊維数) 気中、個人曝露 位相差顕微鏡 0.15(f/cm3) クリソタイルのみの時
0.15/0.015**(F/mL)		 0.1(F) (f/cc)
クリソタイル以外の石綿を含む時
0.03/0.003**(F/mL)
A-3 建材等石綿(定性) 建材等 位相差顕微鏡・X線回折法(JIS法)
A-4 建材等石綿(定量) 建材等 Ｘ線回折(JIS法)
A-5 粒子状物質の形態及び元素分析 粉じん 走査型電子顕微鏡
A-6 鉛及びその化合物 気中、個人曝露 AAS 0.05(mgPb/m3) 0.1(mgPb/m3) 0.05(mgPb/m3)
A-7 クロム(クロム酸、重クロム)及びその塩 気中、個人曝露 AAS 0.05(mgCr/m3) (金属、3価)
0.5(mgCr/m3)
(6価)
0.05(mgCr/m3)
(特定の6価)
0.01(mgCr/m3)		 (金属、3価)
0.5(mgCr/m3)
(水溶性6価)
0.05(mgCr/m3)
(非水溶性6価)
0.01(mgCr/m3)
A-8 マンガン及びその化合物 気中、個人曝露 AAS 0.2(mgMn/m3) 0.2(mgMn/m3) (0.2)(mgMn/m3)
A-9 カドミウム及びその化合物 気中、個人曝露 AAS 0.05(mg/m3) 0.05(mgCd/m3) 0.01/0.002(R)(mgCd/m3)
A-10 水銀及びその無機化合物 気中、個人曝露 還元気化AAS 0.025(mgHg/m3) (蒸気)
0.025(mg/m3)		 0.025(mgHg/m3)
A-11 砒素及びその化合物 気中、個人曝露 還元気化AAS 0.003(mgAs/m3) 3/0.3**(μgAｓ/m3) 0.01(mgAs/m3)
A-12 セレン及びその化合物 気中、個人曝露 AAS 0.1(mgSe/m3) 0.2(mgSe/m3)
A-13 ベリリウム及びその化合物 気中、個人曝露 蛍光光度法 0.002(mg/m3) 0.002(mgBe/m3) 0.00005(I)(mgBe/m3)
A-14 インジウムおよびその化合物 気中、個人曝露 ICP/MS 0.1***(mg/m3) 0.1(mgIn/m3)
A-15 ニッケル及びその化合物 気中、個人曝露 AASまたはICP/MS 0.1 (mgNi/m3) (精錬粉塵)
10/1**(μgNi/m3)
(水溶性)
(0.01)(mgNi/m3)
(非水溶性)
(0.1)(mgNi/m3)		 (金属)
1.5(mgNi/m3)
(水溶性)
0.1(mgNi/m3)
(非水溶性)
0.2(mgNi/m3)
(亜硫化ニッケル)
0.1(mgNi/m3)
A-16 コバルト及びその化合物 気中、個人曝露 AASまたはICP/MS 0.05(mgCo/m3) 0.02(mgCo/m3)
A-17 五酸化バナジウム 気中、個人曝露 AAS 0.03(mgV/m3) 0.05(mg/m3) (0.05)(I)(mgV/m3)
A-18 酸化チタン 気中、個人曝露 AAS 10(mg/m3)
A-19 金属類 気中、個人曝露 AASまたはICP/MS
A-20 コールタール 気中、個人曝露 重量法 0.2(mg/m3) 0.2(mg/m3)
A-21 α-ナフチルアミン、(およびβ－ナフチルアミン) 気中、個人曝露 GC(FID)
A-22 MOCA
(4,4'-ジアミノｰ3,3'-ジクロロジフェニルメタン)		 気中、個人曝露 GC/MS 0.005(mg/m3) 0.005(mg/m3) 0.01(ppm)
A-23 ο-フェニレンジアミン 気中、個人曝露 GC(NPD) 0.1(mg/m3) 0.1(mg/m3)
A-24 エチレンジアミン 気中、個人曝露 GC(NPD) 10(ppm) 10(ppm)
A-25 ヒドラジンおよびその水和物 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.1(ppm) 0.01(ppm)
A-26 オーラミン・マゼンタ 気中、個人曝露 HPLC(UV)
A-27 ο-トルイジン 気中、個人曝露 GC/MS 1(ppm) 2(ppm)
A-28 TDI (2,4-／2,6-トルエンジイソシアネート) 気中、個人曝露 HPLC(Flu) 0.005(ppm) 0.005/0.02*(ppm) (0.005)(ppm)
A-29 MDI (4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート) 気中、個人曝露 HPLC(Flu) 0.05(mg/m3) 0.005(ppm)
A-30 TDI+MDI 気中、個人曝露 HPLC(Flu)
A-31 HDI (ヘキサメチレンジイソシアネート) 気中、個人曝露 HPLC(Flu) 0.005(ppm) 0.005(ppm)
A-32 ホルムアルデヒト 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.1(ppm) 0.1/0.2*(ppm) 0.3(C)(ppm)
A-33 アセトアルデヒト 気中、個人曝露 HPLC(UV) 50*(ppm) 25(C)(ppm)
A-34 グルタルアルデヒト 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.03*(ppm) 0.05(C)(ppm)
A-35 アルデヒト(16成分以内)(スペルコ) 気中、個人曝露 HPLC(UV)
A-36 アンモニア 気中、個人曝露 IC 25(ppm) 25(ppm)
A-37 酸化エチレン(別名：エチレンオキシド) 気中、個人曝露 GC(ECD)またはGC/MS 1(ppm) 1(ppm) 1(ppm)
A-38 プロピレンオキシド 気中、個人曝露 GC(FID) 2(ppm)
A-39 スチレンオキシド(別名：フェニルオキシラン) 気中、個人曝露 GC/MS
A-40 アクリルアミド 気中、個人曝露 GC(NPD) 0.1(mg/m3) 0.1(mg/m3) 0.03(IFV)(mg/m3)
A-41 ホルムアミド 気中、個人曝露 GC(FIDまたはNPD) 10(ppm)
A-42 有機溶剤(1成分) 気中、個人曝露 GC(FID)
A-43 有機溶剤(2成分以上) 気中、個人曝露 GC(FID)
A-44 有機溶剤(1成分)(3Ｍ、スペルコ等) 個人曝露 GC(FID)
A-45 有機溶剤(2成分以上)(3Ｍ、スペルコ等) 個人曝露 GC(FID)
A-46 有機溶剤(1成分)(2層式3Ｍ) 個人曝露 GC(FID)
A-47 有機溶剤(2成分以上)(2層式3Ｍ) 個人曝露 GC(FID)
A-48 VOC(5成分以内)(3Ｍ、スペルコ等) 個人曝露 GC/MS
A-49 VOC(5成分以内)(3Ｍ、スペルコ等) 個人曝露 GC/MS
A-50 VOC(32成分以内)(スペルコ) 個人曝露 GC/MS
A-51 VOC(32成分以内)(スペルコ) 個人曝露 GC/MS
A-52 ベンゼン 気中、個人曝露 GC(FID) 1(ppm) 1.0/0.1**(ppm) 0.5(ppm)
A-53 硫酸ジメチル 気中、個人曝露 GC/MS 0.1(ppm) 0.1(ppm) 0.1(ppm)
A-54 硫酸ジエチル 気中、個人曝露 GC/MS
A-55 硫酸ジメチル＋硫酸ジエチル 気中、個人曝露 GC/MS
A-56 エピクロロヒドリン 気中、個人曝露 GC(FID) 0.5(ppm)
A-57 1,3-ブタジエン 気中、個人曝露 GC(FID) 2(ppm)
A-58 1,3-ブタジエン(2層式) 気中、個人曝露 GC(FID) 2(ppm)
A-59 ο-フタロジニトリル 気中、個人曝露 HPLC(UV) (0.01)(mg/m3)
A-60 アクリロニトリル 気中、個人曝露 GC(FID) 2(ppm) 2(ppm) 2(ppm)
A-61 フッ化水素 気中、個人曝露 吸光光度法 0.5(ppm) 3*(ppm) 0.5(ppm)
A-62 シアン化水素 気中、個人曝露 吸光光度法 3(ppm) 5(ppm) 4.7(C)(CNppm)
A-63 シアン化ナトリウム､シアン化カリウム 気中、個人曝露 吸光光度法 3(mgCN/m3) 5*(mgCN/m3) 5(C)(mgCN/m3)
A-64 硫化水素 気中、個人曝露 GC/MS 5(ppm) 5(ppm) (10)(ppm)
A-65 塩化水素 気中、個人曝露 IC 5*(ppm) 2(C)(ppm)
A-66 硫酸 気中、個人曝露 IC 1*(mg/m3) 0.2(T)(mg/m3)
A-67 硝酸 気中、個人曝露 IC 2(ppm) 2(ppm)
A-68 二酸化窒素 気中、個人曝露 吸光光度法 検討中 3(ppm)
A-69 二酸化イオウ 気中、個人曝露 IC 検討中 0.25(STEL)(ppm)
A-70 ベンゾトリクロリド 気中、個人曝露 GC(FID) 0.1(C)(ppm)
A-71 塩化ベンジル 気中、個人曝露 GC(FID) 0.5(C)(ppm)
A-72 1-ブロモプロパン 気中、個人曝露 GC(FID) 10(ppm)
A-73 1，2，3－トリクロロプロパン 気中、個人曝露 GC(ECD) 10(ppm)
A-74 臭化ビニル 気中、個人曝露 GC(FID) 0.5(ppm)
A-75 アクリル酸エチル 気中、個人曝露 GC(FID) 5(ppm)
A-76 2,3-エポキシ‐1-プロパノール(グリシドール) 気中、個人曝露 GC/MS 2(ppm)
A-77 フェノール 気中、個人曝露 GC(FID) 5(ppm) 5(ppm)
A-78 メチル-2-シアノアクリレート(MCA) 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.2(ppm)
A-79 エチル-2-シアノアクリレート(ECA) 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.2(ppm)
A-80 MCA+ECA 気中、個人曝露 HPLC(UV)
A-81 クレオソート油 気中、個人曝露 GC/MS
A-82 1,1-ジメチルヒドラジン 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.01(ppm)
A-83 ο-ニトロアニソール 気中、個人曝露 HPLC(UV)
A-84 ウレタン(カルバミン酸エチル) 気中、個人曝露 GC/MS
A-85 2-クロロ-1,3-ブタジエン(クロロプレン) 気中、個人曝露 GC/ECD 10(ppm)
A-86 1,4-ジクロロ－2－ブテン 気中、個人曝露 GC/MS 0.005(ppm)
A-87 イソプレン 気中、個人曝露 GC/FID
A-88 1,3-ジクロロプロペン 気中、個人曝露 GC/MS 1(ppm)
A-89 酢酸ビニル 気中、個人曝露 GC/FID 10(ppm)
A-90 ニトロトルエン(混合) 気中、個人曝露 GC/NPD 2(ppm)
A-91 ジニトロトルエン(混合) 気中、個人曝露 GC/ECD 0.2(mg/m3)
A-92 ο-及びρ-アニシジン 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.1(ppm) 0.5(mg/m3)
A-93 4-クロロ-2-メチルアニリンとその塩酸塩 気中、個人曝露 HPLC(UV)
A-94 4,4'-ジアミノジフェニルエーテル 気中、個人曝露 HPLC(UV)
A-95 4,4'-メチルジアニリン 気中、個人曝露 HPLC(UV) 0.1(ppm)
A-96 2-メトキシ-5-メチルアニリン 気中、個人曝露 HPLC(UV)

注意：管理濃度と許容濃度、TLVは定義が異なりますのでご注意ください。また、これらの値は変更されますので、最新のもので御確認ください。

  • a：2009年
  • b：日本産業衛生学会勧告値（2009年度）
  • c：2009年度
  • E：E（管理濃度）=3.0/（1.19Q+1）、だたしQは遊離けい酸の含有率（％）
  • F：繊維長5μm超、アスペクト比≧3：1
  • R：呼吸性粒子
  • I：吸入性粒子(ただし遊離けい酸については学会の規定による)
  • T：ソーラシック粒子
  • V：蒸気とエアロゾル
  • C：天井値
  • IFV：吸入性粒子と蒸気
  • STEL：15分間上限値
  • （e）：元素
  • （i）：不溶性無機化合物
  • （s）：水溶性無機化合物

（）：括弧内の値は、この時点で暫定値であることを示す。

  • *：最大許容濃度
  • **：過剰発がん生涯リスクレベル10-3および10-4での評価値
  • ***：当面管理すべき濃度

お問い合わせ

中央労働災害防止協会（中災防）
労働衛生調査分析センター　化学物質調査分析課
〒108-0014　東京都港区芝5－35－2　安全衛生総合会館8F
TEL：03-3452-0420　FAX：03-3452-4807